رئیس سازمان هواپیمایی کشوری و مدیرعامل منطقه ویژه اقتصادی و فرودگاه بینالمللی پیام در نشستی…
۱۳ خرداد ۱۴۰۵
۱۳ خرداد ۱۴۰۵
زمان مطالعه : ۳ دقیقه

هواوی بار دیگر تلاش کرده است روایت تازهای از آینده صنعت نیمههادی ارائه کند. این شرکت در کنفرانس اخیر تراشه شانگهای از مفهومی با عنوان «قانون تائو» (Tau Law) رونمایی کرد؛ مفهومی که به گفته مدیران هواوی میتواند جانشین «قانون مور» (Moore’s Law) شود؛ قانونی که طی بیش از نیمقرن مسیر پیشرفت صنعت تراشه را تعیین کرده است.
قانون تائو نامی است که هواوی بر راهبرد خود برای جبران نبود فناوری لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) گذاشته است؛ راهبردی که به جای کوچکتر کردن مداوم ترانزیستورها، بر انباشت عمودی و بستهبندی سهبعدی تراشهها تکیه دارد. به بیان ساده، اگر قانون مور بر «کوچکتر ساختن» استوار بود، قانون تائو بر «روی هم چیدن» لایههای بیشتری از مدارها برای افزایش توان پردازشی اشاره میکند.
اما فراتر از هیاهوی تبلیغاتی، مقاله فنی منتشرشده توسط هواوی تصویر دیگری را نشان میدهد؛ تصویری که بیش از آنکه نشاندهنده یک جهش فناورانه باشد، نشاندهنده تلاش چین برای سازگاری با محدودیتهای ناشی از تحریمهای آمریکا است.
هواوی در این پروژه به جای کوچکتر کردن ترانزیستورها، سراغ معماری سهبعدی رفته است؛ رویکردی که در آن چند لایه تراشه روی یکدیگر قرار میگیرند تا چگالی پردازشی افزایش یابد. این شرکت مدعی است نسل بعدی تراشههایش ۵۵ درصد متراکمتر از نسل فعلی خواهند بود و تا سال ۲۰۳۱ به سطح عملکرد پیشرفتهترین تراشههای جهان میرسند.
با این حال، اصل ماجرا در فناوری انباشت سهبعدی نیست. شرکتهایی مانند TSMC، اینتل، AMD و سامسونگ سالهاست از همین رویکرد استفاده میکنند. تفاوت در اینجاست که آنها این فناوری را روی تراشههایی توسعه میدهند که با تجهیزات لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) ساخته شدهاند؛ تجهیزاتی که از سال ۲۰۱۹ به دلیل محدودیتهای صادراتی آمریکا در اختیار چین قرار نگرفته است.
در واقع، آنچه هواوی «قانون تائو» مینامد، بیش از آنکه جایگزین قانون مور باشد، تلاشی برای جبران نبود دسترسی به فناوری EUV است. خود هواوی نیز در مقاله فنی خود به این محدودیت اشاره میکند و مینویسد شرکتهایی که دسترسی آنها به پیشرفتهترین فناوریهای لیتوگرافی محدود شده، زودتر با محدودیتهای توسعه مواجه میشوند.
جیمی گودریچ، تحلیلگر مستقل صنعت نیمههادی، این مقاله را صریحترین اعتراف هواوی به ناتوانی در عبور از سد فناوری EUV میداند. به گفته او، حتی اگر برنامه هواوی مطابق وعدهها پیش برود، این شرکت در سال ۲۰۳۱ به سطحی از عملکرد خواهد رسید که TSMC احتمالاً در سال ۲۰۲۸ به آن دست یافته است. در نتیجه فاصله فناوری چین با رهبران صنعت نه سه سال، بلکه بین شش تا هشت سال باقی خواهد ماند.
علاوه بر این، چالش تولید انبوه همچنان پابرجاست. برآوردها نشان میدهد نرخ بازدهی خطوط تولید تراشه هواوی هنوز فاصله زیادی با استانداردهای جهانی دارد. موضوعی که اجرای فناوریهای پیچیدهای مانند انباشت سهبعدی را دشوارتر میکند.
با این حال، نباید از یک نکته غافل شد. مقاله هواوی در عین حال نشان میدهد که محدودیتهای آمریکا اگرچه توانستهاند دسترسی چین به فناوریهای پیشرفته را محدود کنند، اما نتوانستهاند روند نوآوری را متوقف کنند. هواوی همچنان در حال یافتن مسیرهای جایگزین است؛ مسیرهایی که شاید نتوانند فاصله فناوری را از بین ببرند، اما میتوانند سرعت عقبماندگی را کاهش دهند.
به همین دلیل، «قانون تائو» را میتوان بیش از آنکه اعلام آغاز یک عصر جدید در صنعت تراشه دانست، نشانه ورود چین به مرحلهای تازه از رقابت فناوری تلقی کرد؛ مرحلهای که در آن هدف دیگر پیشی گرفتن از غرب نیست، بلکه کاهش هزینههای عقب ماندن از آن است.